Вольфрамовый лист 3х80х2000 мм В-МП в Магнитогорске

Свариваемость листа ВА толщиной 0.6 мм осложнена высокой хрупкостью вольфрама после перекристаллизации. Требуется сварка в инертной газовой среде (аргон), точное управление тепловыми циклами, а также предварительный нагрев и последующая термообработка для снижения остаточных напряжений.

Долгосрочной эксплуатации вольфрамового листа без деградации способствуют условия глубокого вакуума, инертные газовые среды (аргон, гелий) или водородная атмосфера. Отсутствие кислорода, галогенов и других агрессивных химических реагентов критично для сохранения свойств при высоких температурах.

Лист ВД толщиной 0.8 мм используется в медицинском оборудовании для эффективного экранирования. Высокая плотность и атомный номер вольфрама обеспечивают поглощение ионизирующего излучения, применяясь в рентгеновских аппаратах и системах лучевой терапии для защиты персонала и пациентов.

Вольфрамовый лист встречается в экспериментальных установках, требующих сверхвысоких температур, таких как токамаки (для футеровки первой стенки), высокотемпературные вакуумные печи для синтеза материалов и установки для исследования плазмы.

Для работы в среде азотной кислоты с концентрацией 70% при 60°С вольфрамовый лист непригоден. Вольфрам подвержен интенсивной коррозии в горячих концентрированных окислительных кислотах, включая азотную, образуя вольфрамовую кислоту.

Высокая чистота и полировка поверхности листа снижают его коэффициент термического излучения в вакууме. Гладкая, без окислов поверхность эффективно отражает тепло, уменьшая теплопотери и улучшая энергоэффективность в высокотемпературных вакуумных установках.

Выбор листа ВА для термоизоляционных барьеров в вакуумных печах определяется его высокой температурой плавления, низким давлением паров и отличными отражательными свойствами для ИК-излучения. Это обеспечивает эффективную теплоизоляцию и минимизирует теплопотери.